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台积电

台积电披露3nm功耗与性能增益 2nm设计将更具潜力

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作为业内领先的半导体制造商,台积电(TSMC)刚刚分享了有关新一代制程节点的更多细节。在今天早些时候的 2021 线上技术研讨会期间,台积电研发高级副总裁米玉杰(Y.J. Mii)博士陆续介绍了 N6、N5、N4 和 N3 工艺节点的最新规划。除了晶圆工艺的密度,我们还得知了有关不同制造节点的产能和推出时间表。

台积电1nm取得重要进展 逼近硅芯片的物理极限

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前不久,IBM公布了2nm技术路线,让人倍感振奋。虽然摩尔定律速度放缓,但硅晶片微缩的前景依然广阔。不过,2nm之后就是1.5nm、1nm,硅片触及物理极限。日前,台大、台积电和麻省理工共同发布研究成果,首度提出利用半金属Bi作为二维材料的接触电极。

台积电20nm工艺在今年第一季度彻底消失

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近日,台积电公布了2021年第一季度财报,收入129.2亿美元,同比大增25%,毛利率52.4%,同比微增0.6个百分点。其中,智能手机、高性能计算市场分别为台积电贡献了45%、35%的收入,合计高达80%,是两大绝对支柱,另外物联网9%、自动驾驶4%、其他7%。

三星今年有望在半导体成熟节点获得第四名 台积电稳居首位

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随着三星在先进制造节点上继续与台积电竞争,这家韩国巨头的努力将使其排名达到第四位。据报道,三星从5nm到3nm的芯片开发实现了跳跃式发展,但仍被排除在全球前三的半导体制造商之外。