三极管是我们在模拟电路学习中遇到的一个基本而又重要的器件,大家对于这个器件的工作原理一定都不陌生。诸如“高电平导通、低电平截止”、“共射放大电路”、“射极跟随器”等等这些定义也都是我们在学习中经常遇到的。但到了实际工作中,不是仅仅知道这些定义就可以顺利完成任务的,诸如“这个三极管是不是好的?”、“怎么快速判断三极管极性”这些问题是书本中很少介绍的,但又是每一名电子从业者或爱好者应该掌握的。我们就从实战的角度为大家介绍三个必须要掌握的“判别方法”。
<strong>一、判别三极管的好坏</strong>
我们在电路调试过程中遇到问题时,经常需要判断管子性能是不是好的,这时我们可
2019年随着5G实验网和终端成熟,第5代移动通信技术(5G)商用近在眼前。它将以全新的网络架构,提供至少十倍于4G的峰值速率。毫秒级的传输时延和千亿级的连接能力开启万物广泛互联、人机交互的新时代。
作为通用目地的技术,5G将全面构建经济社会数字化转型的关键基础设施,从线上到线下,从消费到生产,从平台到底到生态推动数字经济发展迈上新台阶。麦肯锡曾经做出预测2020年中国将成为全球最大的5G市场,5G间接拉动GDP年复合增长率高达24%。2025年全球物联网市场规模将达到4万亿至11万亿美元,联网设备将呈现指数级增长。在这样的背景下,选择好的物联网开发工具极其重要,这里介绍几款安森美半导体的物联网开发工具。
<strong>概览</strong>
转换器技术每年都在发展。 主要半导体公司的模数转换器(ADC)和数模转换器(DAC)的采样速率比十年前的产品快了几个数量级。 例如,2005年,世界上速度最快的12位分辨率ADC采样速率为250 MS/s;而到了2018年,12位ADC的采样率已经达到6.4 GS/s。 由于这些性能的提高,转换器可以直接数字化RF频率的信号,并为现代通信和雷达系统提供足够的动态范围。
先给出结论:极低功耗、精准的远程检测绝对是可行的。
本文将展示的远程检测实例具有高可靠性、易连通性和超低功耗的特性。这些电路主要面向需要稳定通信和最低限度的电池维护的工业环境。
文中的解决方案结合了近年来低功耗、高精度放大方面的研究进展,兼具同等的低功耗、高可靠性无线 Mesh 网络功能。支持实现这些解决方案的是零漂移、低输入偏置放大器 LTC2063 和 LTP5901-IPM,前者最高以2 μA电流运行,后者在睡眠模式下消耗电流不到1.5 μA。这些器件的功耗足够低,可以采用一块由铜和锌电极(每个四平方英寸),以及由柠檬内部物质形成的电解质组合而成的电池供电。
<strong>无线 Mesh 网络</strong>
大学的时候看到电路中涉及到MOS管的使用,指定头大。前几天偶然看见一篇文档《MOS管原理,非常详细》,对MOS管的使用总结的很透彻,所以整理到这里。以下以增强型MOS管为例解释说明。
<strong>1. 三个极怎么判定</strong>
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<strong>一、单片机上拉电阻的选择</strong>
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比较器,是一个看起来简单但又让人极为痛苦的器件。如果你是刚学模拟电子技术的学生,那么在初次使用它时,不仅会被其诡异的表现难住,还将百思不得其解:如此简单的比较器,怎么就这般不听话呢?
《新概念模拟电路》系列丛书之《信号处理电路》一本书中这样说:
其实,比较器最常见的诡异现象就是翻转抖动。以一个基准电压为0V,输入信号为从-1V到1V的三角波为例,当输入信号穿越基准电压点时,理论上:输出信号应该立即翻转,干脆利索,且输入信号应该不受任何影响。但实际情况如图1左图所示:输出信号在翻转位置出现了多次抖动,然后才归于平静,然后,输入信号居然也出现了抖动毛刺。
据中国信通院《5G经济社会影响白皮书》预测,截至2030年,5G带动的直接产出和间接产出将分别达到6.3万亿和10.6万亿元。中国移动曾表示,基于大连接战略,到2020年要实现50亿连接目标,形成物联网“云-管-端”全方位体系架构。
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随着物联网(IoT)的快速发展,联接的IoT设备数、传感器数和执行器数将不断增长。在IoT网络边缘,有大量的终端节点,虽然这些单个节点可能都仅需极低的功率需求,且无需持续运行(仅在需要时才启动),但激增的节点数会产生极高的总功耗。因此,全球面临减少能源消耗的挑战,需要寻求替代能源以实现免电池的新方案为这些边缘节点供电和提升能效。同时,市场需要一系列的无线协议以实现无线互联,从而灵活部署、方便维护和降低成本。
致力于推动高能效创新的安森美半导体结合能量采集和低功耗无线互联技术,提供全面的超低功耗无线方案,包括创新的采集能量自供电方案、智能无源无线传感器、联接节点到云的超低功耗嵌入式硬件平台等,解决IoT 应用的能源和线束挑战,同时降低设计和维护成本,并符合可持续发展理念,使世界更环保。
<strong>1、整流桥并联</strong>
在小功率设计中,一般很少用到整流桥的并联,但在某些大功率输出的情况下,不想增添新的器件单个整流桥电流又不满足输入功率要求,就需要用到整流桥的并联了,整流桥的并联不能采用两个整流桥各自整流后直流并联的方式,也就是不能采用图1的方式,因为整流桥没有配对,单纯靠自身的V-I特性,一般是无法均流的,这样就会造成两个整流桥发热不一致。而采用图2的方式,通常认为在一个封装内的两个二极管是非常匹配的,是可以均分电流的,所以采用图2的方式就可以实现整流桥的并联了。
<strong>一、避免过孔via紧挨着SMT焊盘</strong>
如果未盖油塞孔的via,在layout时将过孔打的过于靠近SMT器件的焊盘,将会造成SMT器件在过回流焊时,流动的焊锡通过该过孔流到PCB的另一面,造成SMT焊料不足而虚焊等问题。通常建议,via过孔的边缘距离SMT焊盘边缘距离在25mil以上,并且via过孔做盖油处理。
<strong>二、不要将比SMT焊盘宽的线直接拉入焊盘</strong>
<strong>下面我们将主要讨论共射级放大电路</strong>
放大电路就是把小信号放大为大信号。如下图所示,晶体管有三个端子,分别是集电极、基极、发射极。其中基极为输入,集电极为输出,发射级为公用地。因此我们称之为共发射极放大电路。
对于数字波束成形相控阵,要生成本地振荡器(LO) ,通常会考虑的实现方法是向分布于天线阵列中的一系列锁相环分配常用基准频率。对于这些分布式锁相环,目前文献中还没有充分记录用于评估组合相位噪声性能的方法。
在分布式系统中,共同噪声源是相关的,而分布式噪声源如果不相关,在 RF 信号组合时就会降低。对于系统中的大部分组件,这都可以非常直观地加以评估。对于锁相环,环路中的每个组件都有与之相关联的噪声传递函数,它们的贡献是控制环路以及任何频率转换的函数。这会在尝试评估组合相位噪声输出时增加复杂性。本文基于已知的锁相环建模方法,以及对相关和不相关贡献因素的评估,提出了跟踪不同频率偏移下的分布式PLL贡献的方法。
<strong>概览</strong>
电磁频谱是战争领域中争议越来越大的话题。 电子对抗措施日益复杂,探测第五代战斗机变得更加困难,大多数世界主要大国正大力投资到网络战技术,以便未来成为这一领域的主导者。 此外,随着蜂窝电话供应商开始推出5G,汽车制造商推动V2X通信,以及物联网将无线连接推向无数设备,频谱的商业用途呈指数级扩展。
开关电源调试时最常见的10个问题,做为工程师的你还不知道吗?PS:内附解决方法!
<strong>1、变压器饱和</strong>
<strong>变压器饱和现象</strong>
在高压或低压输入下开机(包含轻载,重载,容性负载),输出短路,动态负载,高温等情况下,通过变压器(和开关管)的电流呈非线性增长,当出现此现象时,电流的峰值无法预知及控制,可能导致电流过应力和因此而产生的开关管过压而损坏。
二极管又称晶体二极管,简称二极管。电子元件当中,一种具有两个电极的装置,只允许电流由单一方向流过,许多的使用是应用其整流的功能。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过(称为顺向偏压),反向时阻断 (称为逆向偏压)。因此,二极管可以想成电子版的逆止阀。在半导体硅或锗中一部分区域掺入微量的三价元素硼使之成为P型,另一部分区域掺入微量的五价元素磷使之成为N型半导体。在P型和N型半导体的交界处就形成一个PN结。一个PN结就是一个二极管,P区的引线称为阳极,N区的引线称为阴极。
<strong>作用</strong>
用于电压转换的每个开关模式稳压器都会引起干扰。在电压转换器的输入端和输出端,有一部分是通过线传输的,但也有一部分是辐射的。这些干扰主要是由快速开关的边缘引起的。
对于现代开关模式稳压器,它们只有几纳秒长。采用新开关技术(例如SiC或GaN)之后,这些开关转换的时间特别短。图1所示为大约 1纳秒长的开关转换时间。基础频率不能与降压型稳压器的开关频率混淆。但是,有一些方法可以克服干扰问题。如图1所示,应该尽可能快地开关边缘,以便尽可能减少开关损失。
<strong>一.安规简介 </strong>
<strong>1.定义</strong>
为了保证人身安全,财产,环境等不受伤害和损失,所做出的规定.
<strong>2.安规所涉及的要求:</strong>
a.电击 b.火灾 c.电磁辐射 d.环境污染 e.化学辐射 f.能量冲击 g.化学腐蚀 h.机械伤害和热伤害
<strong>3.世界主要安规体系</strong>
a.IEC体系----以欧盟为代表 b.UL体系----以美国为代表
尽管这两个体系各自独立,但现在有互相承认,走向一致的趋势.
ESD静电防范常见问题及解决方案静电是人们非常熟悉的一种自然现象。静电的许多功能已经应用到军工或民用产品中,如静电除尘、静电喷涂、静电分离、静电复印等。然而,静电放电 ESD(Electro-Static Discharge)却又成为电子产品和设备的一种危害,造成电子产品和设备的功能紊乱甚至部件损坏。
现代半导体器件的规模越来越大,工作电压越来越低,导致了半导体器件对外界电磁骚扰敏感程度也大大提高。ESD对于电路引起的干扰、对元器件、CMOS电路及接口电路造成的破坏等问题越来越引起人们的重视。电子设备的ESD也开始作为电磁兼容性测试的一项重要内容写入国家标准和国际标准。
<strong>静电成因及其危害</strong>
绝缘型场效应管的栅极与源极、栅极和漏极之间均采用SiO2绝缘层隔离,因此而得名。又因栅极为金属铝,故又称为MOS管。它的栅极-源极之间的电阻比结型场效应管大得多,可达1010Ω以上,还因为它比结型场效应管温度稳定性好、集成化时温度简单,而广泛应用于大规模和超大规模集成电路中。
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